1. 厦门信达宝马，厦门宝马经销商有哪些？
4s店都是差不多的吧，据我所知，厦门的宝马4s店有厦门中宝、厦门锦宝宝马、厦门威士宝宝马同集店、厦门锦宝、厦门信达通宝宝马这几家，至于哪家服务态度好的话，我也不是很清楚
2. 成功拿到华为外包的offer？
华为外包的offer该不该留？华为本身是非常好的工作平台，也是无数人理想中的公司。题主纠结的地方有两点：外包和工作累。我的建议是根据工作内容和发展前景去考虑，而不是单纯的考虑是否外包和累不累。
1 如果题主比较年轻，可以去积攒经验和技能外包有两个劣势，一是干的活多一样，但享受的待遇福利没人家好；二是可能会被安排一些基础性、重复性工作。
这也是很多人讨厌外包工作的原因。但我认为如果题主刚毕业或者比较年轻，其实可以去体验一下。毕竟外包也是在华为那边工作，虽然编制上不是华为的人，但工作内容、氛围、环境等都是华为的，这对于刚参加工作的人来说，是个很好的锻炼机会。
如果安排的工作是基础的、零碎的，但如果你有心，你完全可以自己去学习其他方面的工作，因为你有机会能接触到。另外，你可以了解华为的企业文化、工作流程、公司制度等，这些方面对你个人能力的提升也很有帮助。
2 薪酬待遇也是要考虑的因素另一方面就是要考虑薪酬待遇。外包的话，可能福利方面没有正式员工好，但你不能和他们比，因为你如果是靠自身实力是去不了华为的，所以实力不如人家，那福利肯定也不会和人家一样。你要去和你能应聘上的其他公司所给你的待遇比，或者和与你实力差不多的人比较。如果这份外包工作的待遇要高，那完全可以考虑。工作不是就为了挣钱嘛，挣的多就行了，有时候考虑太多，真的没必要。
3 面对外包，心态平衡很重要一方面是所做的工作更多的是基础性和边缘性的，无法直接参与核心工作，另一方面是工作量很大，但待遇却无法和华为正式员工相比。华为的待遇高是众所周知的。所以，同工不同酬是你必须做好心理准备的。
综上所述，如果题主比较年轻，那就去吧，年轻人不要怕累，这是一个很好的学习和积攒经验的机会，同时调整好心态，多和华为里的大牛学习，提升自我。但外包实在不是长久之计，工作几年之后可以考虑跳槽机会，不管怎么说，在华为工作也算镀金吧，即使是外包也算镀了一层银。
3. 中国的光刻机技术和荷兰的光刻机技术？
区别可大了，国产最先进的是“SSA600/20步进扫描式DUV光刻机，最小工艺制程节点为90纳米，于2018年通过验收”。ASML的最先进光刻机是“EUV光刻机NXE:3600D，工艺制程节点可以达到3纳米，于2010年被制造来”。最大的差别就是在国际市场上:ASML的光刻机被抢着买，国产光刻机无人问津。
SSA600/20光刻机与NXE:3600D光刻机的差别之一:光源。SSA600/20光刻机使用的是波长为193纳米的Arf准分子光源，由科益虹源制造，其频率应该是4Khz，功率为20W。而NXE:3600D光刻机使用的是波长为13.5纳米的EUV光源，其功率应该要大于350W。根据分辨率与光源波长和物镜数值孔径的关系式:CD=k1*(λ/NA)，λ就是光源的波长，NA既是物镜组的数值孔径。想要提高光刻机的分辨率(减小制程工艺节点)要么缩短光源的波长，要么增大物镜组的数值孔径。可见SSA600/20的光源波长是193纳米，而NXE:3600D光刻机的光源波长为13.5纳米，由此就可以看出两者工艺制成节点的差距有多大了。
SSA600/20光刻机与NXE:3600D光刻机的差别之二:物镜组。SSA600/20光刻机用的国望光学制造的数值孔径为0.75的透镜组，而NXE:3600D光刻机使用的是德国蔡司公司制造的数值孔径为0.33的反光镜。要知道NXE:3600D光刻机使用的这种反光镜只有蔡司公司可以制造出来，这种反光镜的表面镀了80多层钼和硅制造的薄膜，每一层的薄膜的厚度都小于1纳米，且薄膜的粗糙度在0.1纳米级别。另外，反光镜的表面必须极为的平整，如果把镜片比作一个国家话，那么其最高点和最低点的距离在纳米级别，由此可知EUV反光镜的制造难度有多大。而SSA600/20使用的透镜组是由合成石英制造的，难度相对来说小一点。
SSA600/20光刻机与NXE:3600D光刻机的差别之三:双工件台。SSA600/20光刻机使用的是华卓精科制造的DWS双工件台，其运动平均偏差4.5纳米，运动标准偏差7纳米，最大速度1.1米/秒，最大加速度2.4g。其主要采用了磁悬浮平面电机驱动，测量系统则是多轴激光干涉位移测量。而NXE:3600D光刻机使用的是ASML独立研制的双工件台其运动精度可是非常高的。要知道用于浸没式DUV光刻机的双工件台的运动平均偏差为2.5纳米，运动标准偏差为5纳米，貌似ASML的双工件台运动偏差为1纳米。所以说，差距还是挺大的。
以上三个部件的差距是最大的，此外还有就是光刻胶的差距。目前国内最大的光刻胶公司是北京科华，该公司已经制造出了EUV光刻机使用的光刻胶，但是DUV光刻机使用的光刻胶还在研发之中。国产DUV光刻机使用的光刻胶主要就是上海新阳研发的Arf光刻胶。
除了技术性能的差别之外，SSA600/20与NXE:3600系列在国际国内市场的占有率差别更大。在国际市场上ASML的光刻机占据了67%，其他被尼康和佳能分了。而在国内市场上上海微电子得产品占据了80%，其他20%应该是被ASML占据的。但是在EUV光刻机市场上，绝对被ASML垄断了，因为只有他一家可以制造出EUV光刻机。
当然了，国内也在尽力研发浸没式DUV光刻机，也就是将要被上海微电子制造出来的SSA800系列。据目前透漏出来的消息看，2021年将交付首台浸没式DUV光刻机，2030年制造出EUV光刻机。国产EUV光刻机的光刻胶已经被北京科华制造出来，且通过验收了。另外的双工件台，反光镜，光源都在研发之中，估计在2030年制造出EUV光刻机的希望还是挺大的，用10年的时间应该足够了。
